《表1 二倍频器性能比较》
注:1.*为输出加了放大器;2.**为不包括焊盘的芯片面积;3.#为砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(Gallium Arsenide Pseudo High Electron Mobility Transistor)。
表1给出了文中的二倍频器与已报道二倍频器的对比。文献[9]、[10]和[12]实现了较高的基频抑制,但文献[9]的直流功耗很高,文献[10]中芯片面积较大,文献[12]的变频损耗较大。文献[10]和[11]均采用了CMOS工艺,实现了低功耗,但均未实现变频增益(Conversion Gain,CG)。与以上文献报道的二倍频器相比,文中的二倍频器在保持较低直流功耗和相对较小面积的同时,实现了较高的变频增益和基频抑制。
图表编号 | XD0078790000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.06.20 |
作者 | 余文敏、卢煜旻 |
绘制单位 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院大学、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国科学院大学材料与光电研究中心、中国科学院大学 |
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