《表1 3种工艺不同道次等效应变分布》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《纯钨闭塞式双通道等径角挤压数值模拟及实验研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

表2为3种工艺下1道次和4道次挤压后样本点等效应变的统计结果，方差越小、不均匀系数越小，表明样本点的离散程度越低，均匀性越好。由表可以看出，经过1道次变形后，3种工艺等效应变均值由大到小依次为:O-DECAP>DECAP>ECAP，但ECAP的不均匀系数最小。4道次变形后，O-DE-CAP和DECAP工艺的应变累积效果均明显优于ECAP，且O-DECAP的应变分布不均匀系数明显低于DECAP和ECAP，说明Bc路径下4道次挤压后O-DECAP工艺制备的试样应变量大且均匀性最优。