《表1 部分材料的电子逸出功和第一、第二电离能Tab.1 Electronic work function as well as the first and second ionization ene
离子溅射靶材产生二次电子促进靶原子离化以维持稳定放电。放电过程中,靶电流的大小受二次电子发射系数、靶材料溅射系数和溅射原子离化能力的共同影响。原子的电离能越低,碰撞时越容易获得能量而发生电离,部分材料的电子逸出功和电离能见表1[51]。在脉冲电压初始阶段,腔室内靶原子较少,主要由气体离子撞击靶材,溅射出靶原子。由于金属原子的第一电离能比气体低,更易离化生成金属离子,金属离子会逐渐取代气体离子成为主导放电离子。如果靶材料的电离能比气体高,由于其原子体积大,溅射出靶后会将Ar撞离,最终也会取代Ar成为主导放电离子,如图7。腔室中的粒子离化不仅与电离能有关,同时受离子撞击靶材产生的二次电子影响。二次电子在鞘层加速后具有很高的速度和能量,可直接碰撞原子使其离化,也可撞击低速电子使其获得能量继续离化其他原子[49]。
图表编号 | XD004119700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.09.20 |
作者 | 艾猛、李刘合、韩明月、苗虎 |
绘制单位 | 北京航空航天大学、北京航空航天大学、北京航空航天大学、北京航空航天大学 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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