《表4 不同镀层厚度镀层的腐蚀参数结果》

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《铝镍钴永磁体离子镀铜活化处理对镀层性能的影响》

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表4显示了不同镀层厚度引起的镀铜试样腐蚀性能变化。可以发现，当厚度提高后，试样达到了更高的腐蚀电位，同时孔隙率发生了降低并引起腐蚀电流减小的情况。随着镀层由2.1μm提高至6.3μm，孔隙率由13.60%快速降低至1.85%。不过腐蚀电位以及电流密度都没有发生明显改变，表明镀层依然无法对铝镍钴基体发挥优异保护功能。随着镀层厚度提高至6.3μm后，腐蚀电位达到了-0.34 V，已经很靠近纯铜腐蚀电位，同时腐蚀电流发生了显著减小，孔隙率也降低至0.05%。之后镀层进一步变厚时，各项性能参数保持基本稳定的状态，由此表明厚度为6.0μm的镀层具备较高的致密度，可以对基体表面发挥良好的保护功能。