表1:硫化铜薄膜的发展现状及性能研究

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表1:硫化铜薄膜的发展现状及性能研究图表

表1:硫化铜薄膜的发展现状及性能研究
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硫化铜薄膜的发展现状及性能研究中,硫化铜薄膜的发展现状及性能研究中,综合考虑硫酸铜薄膜的成膜厚度、可见光范围内的透过率以及在衬底表面的附着力强弱等情况,我们得出结论,将0.03mol/L的硫酸铜溶液与0.02mol/L的柠檬酸三钠溶液络合搅拌,然后在向混合液中加入0.06mol/L的硫脲,在温度为80℃、pH值在8.5-8.8之间,沉积2.5H条件下,能够生长出镜面光滑、致密的硫化铜薄膜。通过这种配比得到的硫化铜薄膜性能最佳。

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