《高效率紫外LED芯片关键技术及应用》
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中图分类: | TN304.054.4 |
完成/联系人 | 陈长清 戴江南 韩道 张建宝 王永忠 龙瀚凌 张骏 梁仁瓅 陈景文 陈谦 张毅 王昊 |
来源省份: | 湖北 |
完成单位: | 华中科技大学 武汉光电工业技术研究院有限公司 武汉优炜星科技有限公司 |
所属部门: | 华中科技大学 |
科研日期: | 2019 |
研究行业: | 专用化学产品制造 |
研究主题: | 紫外LED芯片,发光二极管,外延生长工艺, |
入选计划: | 国家自然科学基金 |
联系地址: | 湖北省武汉市武昌区珞喻路243号 |
传媒
该项目属于自然科学相关工程与技术领域。
紫外线的应用非常广泛。而作为传统紫外光源的汞灯,由于含有剧毒的汞金属,对人体和环境的危害极大。2020年,中国将根据联合国《关于汞的水俣公约》要求,禁止高压汞灯、含汞荧光灯等产品的生产和使用。因此,发展高效率半导体紫外发光二极管(LED)替代传统的汞灯,既是紫外光源的发展趋势,也是中国经济社会可持续发展的迫切需求。国家《“十三五”战略性新兴产业发展规划》以及《中国制造2025》中明确要求,提升半导体光源等核心基础硬件的供给能力,做大做强节能服务产业,鼓励研发大功率半导体光源芯片与器件等高效节能设备,为高效率紫外LED芯片的发展指明了方向。
紫外LED芯片效率的提升一直是科学技术难题。项目组在国家自然科学基金和武汉市科技项目的支持下,积累了从半导体材料外延生长、器件工艺、芯片封装到终端系统设计的各方面技术优势,构建了紫外LED芯片+封装+组件的全产业链条。经过10余年持续攻关,在高效率紫外LED芯片关键技术方面实现了系统性突破,拥有一系列自主知识产权和创新技术,并已成功实现商业化应用,产生了良好的社会经济效益。该项目主要科技创新成果如下:
1.高质量外延材料的MOCVD生长技术。针对大失配应变体系中外延材料的生长难题,建立了新型AlN材料生长动力学模型,研制出厚度10微米以上,材料晶体质量达到国际先进水平的AlN厚膜,为制备高效率紫外LED芯片提供了关键材料保障。
2.紫外LED芯片有源区优化设计。针对材料体系的能带特性,提出了新型紫外LED有源区结构,有效增大电子-空穴波函数的空间重叠率,提高紫外LED芯片的内量子效率。同时,结合偏振调控方法,实现了发光模式的转变,提高了紫外LED芯片的光提取效率。
3.新型柔性氟胶深紫外LED先进封装。有效借鉴蛾眼微纳结构的仿生学优势,设计了一种适合深紫外LED封装的柔性薄膜,抑制界面全反射效应,同步实现TE和TM两种模式的光效,提高深紫外LED芯片的光提取效率。
4.研制高效率深紫外LED芯片。实现了芯片尺寸30mil×30mil,发光波长为280nm的深紫外LED器件。在20mA工作电流下,外量子效率达到5.3%,处于国内先进水平,进一步缩小了与国际领先水平的差距。
5.高密度COB近紫外LED阵列光源。实现高质量胶印应用、高精度曝光应用、大面积液晶显示应用三个高端光固化领域里的技术突破,开发的高效率紫外LED光源性能达到国际一流水平,填补国内行业空白,助力国家核心产业的发展。
基于以上创新成果,项目组共获得授权发明专利1项,授权的其他知识产权25项。从2016年1月1日至2018年12月31日,共实现紫外LED相关产品销售收入5734.31万元,缴税202.43万元,提供就业岗位44人。该技术成果解决了中国第三代氮化物半导体材料和器件供应方面的“卡脖子”问题,实现了具有自主知识产权的高效率紫外LED芯片,打破了国外技术垄断,并且产生了良好的社会经济效益。
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