《表2 前烘热盘处理时间对膜厚均一性的影响测试》
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《TFT-LCD光刻工艺前烘对沟道膜厚均一性的影响》
前烘热盘的处理时间为生产过程中玻璃基板在热盘腔室内停留时间，分别测试了处理时间为135s、150s和165s时的THK和THK 3s结果。测试条件及结果如表2所示。
| 图表编号 | XD0086368200 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.09.15 |
| 作者 | 薛迎坤、韩亚军、于洪禄、王俊杰、张宸、李伟、郑铁元 |
| 绘制单位 | 北京京东方显示技术有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
