《表1 高纯锡靶材的技术指标》
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本文对高纯高均匀锡靶材的制备工艺研究，证明通过真空铸造法制备高纯锡铸锭，后续进行压力加工和热处理工艺改变靶材的内部组织结构制备工艺，得到的锡靶材纯度高、杂质少、致密性好、晶粒均匀等轴、一致性高。其性能指标如表1所示:
| 图表编号 | XD0083116400 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2019.09.28 |
| 作者 | 李同舟 |
| 绘制单位 | 成都索成易半导体有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
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