《表3 培养5d时乙酸对霉菌生长的抑制效果》

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《低温大曲酵母菌分离和计数培养方法优化》

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利用Ⅰ–Ⅴ培养基进行低温曲样分离时发现：30℃恒温培养3–4d未出现丝状真菌干扰，但当继续培养至5–10d，各组培养基中会出现Aspergillus flavus的生长。故为进一步讨论羧酸对各类丝状真菌生长的抑制效果，采用乙酸梯度调酸培养基，探究抑制各类霉菌出现生长的具体羧酸添加量。已知低温大曲中常见的丝状真菌为：Lichtheimia sp.、Rhizomucor sp.、Rhizopus sp.、Aspergillus flavus等（Chen et al.2014；Zhi et al.2016），选取以上4类代表种进行纯化培养。设置培养基的乙酸添加量为0.8–4.0m L/L，共设14个梯度。30℃恒温培养5d后观测、记录，结果见表3。Lichtheimia sp.在0.8mL/L的乙酸添加量下已不再生长。Rhizopus sp.和Rhizomucor sp.的临界生长点对应的乙酸添加值分别为1.8mL/L和1.5mL/L。由于优化培养基羧酸的用量最低浓度为2.0mL/L，故以上结果进一步证明本研究所采用的优化培养基可有效抑制Lichtheimia sp.、Rhizopus sp.和Rhizomucor sp.的生长。但对于Aspergillus flavus的生长则未达到明显的抑制作用，当乙酸的添加量达到4.0mL/L时（大于优化培养基中乙酸最大用量3.3mL/L），分离平板上仍有Aspergillus flavus的出现。但与不加乙酸的YPD对照培养基相比，Aspergillus flavus的生长速度受到了明显的抑制。结合Ⅰ–Ⅴ优化培养基在分离曲样时，培养3–4d只筛选到酵母菌，培养5–10d则会出现Aspergillus flavus的干扰，得出Ⅰ–Ⅴ优化培养基只是可以延缓Aspergillus flavus的生长，但不可永久抑制。