《表1 MPPMS的放电参数》

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《高功率调制脉冲磁控溅射沉积NbN涂层特征工艺参数研究》

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放电波形由Tektronix TDS2014C示波器记录，如图2所示，宏脉冲的弱离化阶段为250μs，强离化阶段为500μs。其中，强离化阶段微脉冲开启时间是主要影响工艺的微脉冲占空比，强离化阶段微脉冲开启时间由7μs增加至9μs，微脉冲占空比由41%增至47%。每个放电参数取10个记录数据的平均值，即表1中列出的峰值电压Vp、峰值电流Ip、峰值功率Pp和平均功率Pa。采用日本岛津LabX XRD-6000 X射线衍射仪（XRD），对不锈钢基片上沉积的NbN涂层的相结构进行表征。采用ZEISS SUPRA 55-32-76型扫描电子显微镜（SEM），观察涂层样品的截面生长形貌。Nb N涂层的纳米硬度和模量采用MTS Nanoindenter XPTM纳米压痕仪测量，并通过Oliver Pharr法计算，每个涂层的测量结果均为至少9个有效测量点的平均值。采用Surfcorder ET4000M表面轮廓仪测量Si衬底的曲率变化，通过Stoney方程计算得到NbN涂层的残余应力[15]。NbN涂层的韧性采用带有金刚石压头的维氏硬度计进行表征，载荷为1000 mN。涂层失效主要通过压痕产生的径向裂纹衡量，并采用ZEISS SUPRA 55-32-76型扫描电子显微镜（SEM）对涂层的压痕进行观察和分析。