《表3 UV光强分布统计结果》
根据以上确定出的光强分布情况可知,本文在模拟计算过程中用到的消毒和光强比较均匀,可满足实际的分析要求。对于连续流设备,在流速不变,而粒子在经过此区域受到的辐照总量主要和光强有关。然而,本节采用CFD模拟UV消毒模型的UV光强分布,结果见表3,4种试验条件下UV光强基本一致,其原因可能在于反应器单位体积内的液体所接受的UV光强已达到光饱和的状态。低压UV灯辐射之下达到一定光强后,提高UV灯的功率并不能增大液体媒介所接受的UV光强。
图表编号 | XD004448400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.09.15 |
作者 | 赵铭珊、张锐坚、杜至力、周午阳、刘颖诗 |
绘制单位 | 昆明市环境监测中心、广州市市政工程设计研究总院有限公司、广州市市政工程设计研究总院有限公司、广州市市政工程设计研究总院有限公司、广州市市政工程设计研究总院有限公司 |
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