《表1 配合物1～3在氮气氛围的DMF溶液中的电化学性质》

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《钴席夫碱配合物电催化还原CO_2研究》

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配合物1～3的合成步骤如图1所示.通过质谱和元素分析确认每个配合物的结构和纯度，其结果与文献[17]的数据相一致.所有的电化学测试均在CHI660E电化学工作站上进行.首先研究配合物在惰性气体氮气氛围中的电化学性质，将配合物溶于除水的DMF溶剂中（浓度为1.0 mmol?L-1），溶液通氮气后采用三电极体系记录循环伏安曲线，如图2（a）所示.在电势范围0至-2.0 V内，配合物2在-1.10 V处有1个可逆的还原峰；在-1.60 V和-1.80 V处有2个不可逆的还原峰；在-1.10 V处的可逆峰所对应的电流密度与扫描速率的平方根成线性关系，说明该过程是扩散控制过程（图3），该峰归属于CoII/I氧化还原过程.其余2个不可逆的还原峰则来自于配体，分别对应于2个亚胺键的还原反应[18].据表1，相比于配合物2，配合物1的3个还原峰均向正方向移动，其主要原因是配合物1上带有吸电子基团（-F），会导致其最高占有分子轨道（HOMO）和最低未占用分子轨道（LUMO）之间的能隙减小.