《表2 笼网等离子放电氮化/DLC双重处理工艺参数》

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《P20钢等离子体氮化/DLC双重处理研究》

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在真空室内连续完成试样的预热、氮化和DLC膜沉积。本底真空3×10-3Pa，通入Ar和H2混合气体，接通电源笼内产生空心阴极等离子体放电，实现工件预热，当试样温度达到400℃后，关闭氩气通入氮气完成试样氮化处理。当试样温度降低到300℃以下，通入C2H2气体沉积DLC薄膜，具体工艺参数见表2。