《表3 晶体材料与包层材料折射率对比》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《晶体光纤及晶体衍生光纤制备与应用综述》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

辛辛那提大学和密苏里大学的研究团队研发了一种用于单晶光纤包层的尖晶石薄膜，通过手动涂刷的方式将薄膜附着于光纤表面．这种薄膜可以在1 250℃以下保持长期稳定，该研究团队证实：与无包层单晶光纤相比，这种尖晶石薄膜可以有效减小光纤数值孔径[60]．美国海军实验室最近提出用两步水热生长法（twostep hydrothermal growth method）制备晶体光纤包层，该方法的第一步是用酸性溶液对晶体光纤表面进行刻蚀，刻蚀速率约为0.15μm/min，从而减小光纤直径；第二步通过水热技术在掺杂YAG晶体表面生长未掺杂YAG晶体．美国海军实验室表示：如果这种方法开发成熟，有望实现纤芯和包层都是晶体材料的晶体光纤[61]．表3给出了上述实验中使用的晶体材料与包层材料折射率的具体数据．