《表5 铜基体对荧光强度的影响》
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《氢化物发生-原子荧光光谱法测定工业电积铜中痕量元素砷、硒》
按照本文方法，移取砷硒标准溶液各0.1μg于100mL容量瓶，加入不同量的Cu基体进行干扰试验，见表5所示。
| 图表编号 | XD0021624700 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2018.06.01 |
| 作者 | 王学虎、马得莉 |
| 绘制单位 | 白银矿冶职业技术学院、白银有色集团股份有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
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