《表1 浸蚀剂配方及参数优化试验方案》

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《低活化铁素体/马氏体钢原奥氏体晶界显示技术探讨》

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对两种显示奥氏体晶界的浸蚀剂配方进行分析，通过控制缓蚀剂含量、浸蚀时间等参数进行试验，浸蚀剂配方及试验参数如表1所示。所用抛光设备为振动抛光机，显微镜为GX71型光学显微镜，采用FEI场发射扫描电镜结合电子背散射衍射进行能谱分析。