《Tab.4 Basal spacing of clays and nanocomposites》
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《无卤阻燃尼龙纳米复合材料微观结构对流变行为及阻燃性能的影响》
利用XRD对蒙脱土层间距进行分析。Fig.1中(a)给出了3种蒙脱土的衍射峰及阻燃剂APBu结晶特征峰。由衍射峰(d001)的位置和布拉格定律(nλ=2d·sinθ),可得到蒙脱土层间距(见Tab.4)。图中CMMT-1和CMMT-2层间距无明显变化,说明硅烷偶联剂对有机蒙脱土的表面修饰并未影响层间距。Fig.1(b)为PA6/蒙脱土纳米复合材料的XRD图谱。图中纯PA6作为基线,在该区域(2θ=2°~10°)并没有任何衍射峰。PA6/Na+MMT复合材料在2θ=4.43°出现1个较为弥散的衍射峰,这表明在熔融共混阶段基体分子链插入到Na+MMT硅酸盐层层间,使层间距略微增加了0.89nm。随着蒙脱土的有机化,复合材料XRD峰值向小角方向移动。其中PA6/CMMT-2纳米复合材料在2θ=2.4°处出现1个较弱的衍射峰。而PA6/CMMT-1复合材料的衍射图形虽PA6/CM-MT-2复合材料相似,但在该范围内并未见明显的衍射峰。说明PA6与CMMT-1层间强的相互作用促进尼龙6分子的扩散,使层间距明显增大。Fig.1(c)中为加了阻燃剂APBu后的PA6/蒙脱土复合材料XRD图。图谱显示PA6/APBu/CMMT-1、PA6/APBu/CMMT-2纳米复合材料除了在2θ=7.25°左右均有1个APBu的特征峰外,并未出现任何明显衍射峰,几乎以剥离结构存在。对于PA6/APBu/Na+MMT纳米复合材料,根据钠基蒙脱土初始XRD图谱显示,可能存在APBu特征峰掩盖了复合材料中Na+MMT的衍射峰(2θ=7.25°,d=1.22nm)或者其在复合体系已完全剥离。
图表编号 | XD0020160200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.04.01 |
作者 | 廖声涛、何文涛、向宇姝、于杰 |
绘制单位 | 贵州大学材料与冶金学院、国家复合改性聚合物材料工程技术研究中心、国家复合改性聚合物材料工程技术研究中心、贵州大学材料与冶金学院、国家复合改性聚合物材料工程技术研究中心 |
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