《表1 光刻、刻蚀分支“IPC主分类号前5”意义下的出现次数排名》
根据文献10中的统计方法,统计不同技术分支在各个年代中各主要IPC分类号下专利申请量进入排名前5的公司11,对其在文献量最多的50个IPC主分类号下出现的次数进行排名。表1、表2统计了光刻、刻蚀、薄膜、掺杂氧化和封测5个分支在2000年代和2010年代出现次数排名的前10位的信息,并对不同年代的两组数据进行相关性标注,此处具体仅对相同申请人进行标注,而未对排序及“出现次数”数据进行计算。
图表编号 | XD00194065900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.02.16 |
作者 | 朱殿尧、杨明、李妍达 |
绘制单位 | 中国专利技术开发公司、国家专利导航项目(企业)研究和推广中心、中国专利技术开发公司、国家专利导航项目(企业)研究和推广中心、中国专利技术开发公司、国家专利导航项目(企业)研究和推广中心 |
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