《表1 AZ4562曝光强度和光栅高度的关系》
研究选用正性光刻胶制备设计的三阶光栅。调研了EXP-1500和AZ4562两种正性光刻胶,选用折射率比较接近1.52的AZ4562。采用不同的曝光强度加工一批试样,并采用蔡司公司的激光共聚焦显微镜LSM700进行测试,其光栅高度和曝光强度之间的关系如表1所示。
图表编号 | XD00189726300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.30 |
作者 | 袁烨、冯奇斌、吕国强 |
绘制单位 | 中航华东光电有限公司、合肥工业大学光电技术研究院、合肥工业大学仪器科学与光电工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |