《表2 位移量测量结果统计(单位:nm)》
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《基于ZYNQ的用于间隙测量的白光干涉信号处理系统》
随后分别固定掩模与基片。在每次测量过程中,通过调整压电位移台使基片移动固定距离,并在基片移动前后分别进行间隙测量,以实现对位移量的测量,并分析系统对位移量的测量精度。表2为位移量的测量结果统计。
图表编号 | XD00189725200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.12.30 |
作者 | 董晓璇、刘明刚、罗先刚、高平 |
绘制单位 | 中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光电技术研究所、中国科学院大学、中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光电技术研究所、中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光电技术研究所、中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光电技术研究所 |
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