《表3 不同浸泡阶段的涂层试样的电路模型》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《石墨烯改性增强富镁涂层对AZ91D镁合金的腐蚀防护效果》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

采用图10中的等效电路对上述4种富镁涂层试样的EIS数据进行拟合[19]。浸泡初期，选用模型A，Rc表示涂层电阻，涂层的单位面积孔隙率越低，Rc值越高；Qc表示涂层电容，反映涂层中溶液渗入的程度。随着浸泡时间的延长，涂层中的镁粉被渗入涂层的溶液活化，此阶段采用模型B进行拟合，Qdl和Rct分别为镁颗粒/溶液界面的反应电阻和双电层电容。随着镁粉不断被腐蚀，模型C可以很好地拟合阻抗数据，其中由Rdiff和Qdiff并联组成的Zdiff与镁颗粒腐蚀产物引起的扩散过程有关[19-20]。浸泡后期，电解质渗透至涂层/镁合金界面，基体开始发生电化学反应，Qst与Rst分别为涂层/镁合金界面处的双电层电容和电荷转移电阻，如模型D所示。表3为各涂层在浸泡不同时间时采用的等效电路模型。