《表4 不同温度下化学镀镍的自腐蚀电位与腐蚀电流》

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《施镀工艺对铝合金化学镀镍的影响》

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在含二元配合物的镀液中，配位剂的稳定常数不同，对金属离子的配位能力也不同，镍离子先与配位稳定常数高的配位剂进行配位，当其配位完后，多余的金属离子再与稳定常数小的配位剂配位[22]。复合配位剂中的弱配位剂丁二酸，既可以保留柠檬酸促进形成磷含量较高并具有较好耐腐蚀性的镀层的有利影响，又可以抑制过量柠檬酸结合大量游离镍离子增加镀层孔隙率并减弱镀层耐腐蚀性的不利影响。另外，丁二酸促进镍离子沉积的不利影响也可被强配位剂柠檬酸的配位作用所掩盖。由此可见，通过上述强弱配位剂搭配使用，可以发挥各自的优势，并抑制二者的不足，从而获得优于单组分配位剂的作用效果。