《表1 线宽测试结果:铜材料在新型触控技术及触控器件应用的研究》
使用铜金属膜层,正性光刻胶采用高分辨率、高感度材料,将正性胶膜厚设定为1.5μm、2.5μm,曝光量设定为50 mj,曝光间隙设定为100μm、150μm,光罩选用石英材质,网格图形的线宽设定为4μm。采用上述2.1.2所述的工艺流程制作金属网格得到的试验结果如表1所示。
图表编号 | XD00173838100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.01 |
作者 | 何云富、宋小来、古海裕、朱泽力、王士敏 |
绘制单位 | 深圳莱宝高科技股份有限公司、深圳莱宝高科技股份有限公司、深圳莱宝高科技股份有限公司、深圳莱宝高科技股份有限公司、深圳莱宝高科技股份有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |