《表5 锗片粘蜡参数设定》

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《超薄锗片粘蜡工艺研究》

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通过实验，确定了10.16 cm锗片的粘蜡工艺参数（见表5），采用新设计的粘蜡吸头进行粘蜡，粘蜡前锗片正表面预贴150μm厚度的紫外膜，粘蜡后锗片的表面形变问题得到解决。对粘蜡工艺改进前和改进后的锗片进行抛光测试，测试结果如图3和图4所示，采用新工艺粘蜡后表面形貌良好，抛光片TTV（total thickness variance）由原来的10.733μm降到2.497μm，局部平整度由10.719μm降到1.718μm，达到了理想的效果。