《表1 不同硅钛摩尔比条件下EIS对比》
通过对比可以发现,在相同放电电流密度下,经过100圈循环后,当硅钛摩尔比为50时,电荷转移阻抗从初始约190Ω增加到约278Ω,变化率为146%;当硅钛摩尔比为25时,电荷转移阻抗从初始约142Ω增加到约212Ω,变化率为149%。而当硅钛摩尔比为20时[13],该值从初始约148Ω增加到约178Ω,变化率为120%,相关结果如表1所示。从表1可以看出,随着硅钛摩尔比的降低,负极的初始电荷转移电阻值逐渐减小,而循环后的电阻值亦降低。首先,硅钛摩尔比的降低导致活性物质硅在嵌脱锂反应过程中的有效浓度减小,经循环后材料的阻值变化率较小。其次,当硅钛摩尔比为20和25时,硅钛复合材料具有更小的电荷转移电阻,在循环后阻抗值变化程度低,具有更好的电极反应动力学过程,说明TiSi2合金构建的导电网络能够稳定材料的结构,保证电子的快速传输。
图表编号 | XD00166462100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.12 |
作者 | 周忠仁、张英杰、华一新、董鹏、张启波、段建国 |
绘制单位 | 昆明理工大学冶金与能源工程学院、锂离子电池及材料国家地方联合工程实验室、昆明理工大学冶金与能源工程学院、锂离子电池及材料国家地方联合工程实验室、昆明理工大学冶金与能源工程学院、昆明理工大学冶金与能源工程学院、锂离子电池及材料国家地方联合工程实验室、昆明理工大学冶金与能源工程学院、昆明理工大学冶金与能源工程学院、锂离子电池及材料国家地方联合工程实验室 |
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