《表1 各种PMOs材料对应前体结构和功能化方式比较》

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《"微波辐照法合成1,3-双（3-三乙氧基硅丙基）-咪唑氯鎓"》

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有序介孔有机硅材料（PMOs）具有较高的比表面积，孔隙结构发达，且有着良好的热化学稳定性和机械稳定性[1-2]，所以常被用于气体吸附[3]、分离[4]和催化领域[5]。通常PMOs的合成方法如图1所示。双硅氧烷化的有机硅前体在酸或碱的水溶液中自身水解缩合，桥联倍半硅氧烷单体水解缩合反应见式（1），经过去除模板剂得到有序介孔有机硅材料[6-7]。但是，普通双硅氧烷化的有机硅前体活性位点较少，对其水解产物进行后合成修饰条件苛刻，且容易造成材料的垮塌[8]。而双硅氧烷化的1，3-双（3-三乙氧基硅丙基）-咪唑氯鎓除自身的活性位点以外，还具有可供修饰的阴离子，通常通过阴离子交换反应可以将阴离子类型的功能基团修饰到1，3-双（3-三乙氧基硅丙基）-咪唑氯鎓上[9-12]，将修饰后的1，3-双（3-三乙氧基硅丙基）-咪唑氯鎓固载化成为功能化有序介孔有机硅材料（PMO-IL）（见表1）。