《表2 平均配位数：不同温度下二氧化硫与甲烷水合物的模拟研究》

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《不同温度下二氧化硫与甲烷水合物的模拟研究》

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体系各种类型的第一溶剂化层内的平均配位数列于表2。表中，SO2-SO2平均配位数表示某SO2分子的第一溶剂化层内的其他SO2分子的平均数量，CH4-CH4、H2O-H2O平均配位数类似。总的来说，各种平均配位数随着温度的升高而减小，即升温使分子的分布变得疏松。H2O-H2O平均配位数的变化程度明显小于SO2-SO2平均配位数，这是因为H2O分子间形成了氢键网络影响了H2O的内部结构。体系中CH4-CH4平均配位数远远大于文献纯甲烷的平均配位数[11]，H2O-H2O平均配位数与文献纯水的平均配位数相近[12]，这同样是由于甲烷被水紧紧包围并受到水的挤压而变得更加紧密有序。