《表3.1三种结构TFET开态电流和平均亚阈值摆幅对比》
图3左图展示了参数优化过后的N型与P型横向SiTFET,纵向Si-TFET和纵向SiGe-TFET在VD=±1 V下的转移特性的比较。可以看出,无论是N型还是P型TFET,纵向SiGe-TFET的隧穿电流明显大于另外两种结构的隧穿电流。右图显示了SiGe-TEFT在外延区Ge组分不同的情况下,N型TFET与P型TFET转移特性。通过在外延区中使用SiGe材料,器件开启电压VOFF将随Ge组分的增加而减小,导通电流与反向泄漏电流都将随着Ge含量的增加而增加。
图表编号 | XD00151041900 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.04 |
作者 | 陈玉翔 |
绘制单位 | 电子科技大学电子科学与工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |