《表1 铜在不同p H时的腐蚀电位和腐蚀电流密度》

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《硅通孔化学机械平坦化中铜去除的电化学与选择性研究》

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在甘氨酸2%（质量分数，下同）、过氧化氢3%（体积分数，下同）的条件下，铜在不同pH的溶液中的动电位极化曲线如图2所示。相应的腐蚀电位和腐蚀电流密度列于表1。当溶液的pH由9上升到10时，Cu的腐蚀电位逐渐负移，腐蚀电流密度逐渐上升，说明铜的腐蚀加剧。然而pH由10上升到11时，腐蚀电位正移，并且阳极分支出现钝化区，说明铜的腐蚀减缓。当溶液pH为10时，铜的腐蚀电位最低，说明腐蚀效果最佳。