《表5 Ni元素扩散相关参数》

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《低红外发射率陶瓷层/金属层/陶瓷层复合薄膜高温性能研究》

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式中：C0为扩散界面元素浓度；erf（β）为误差函数，其值可通过查表得出；扩散距离x=5×10-8 m（图6中450 nm处），扩散时间t=3.6×104 s，计算结果如表5所示。在其他条件一定时，扩散系数D与温度T的关系应服从指数规律[21]。也就是说当复合薄膜的非晶-纳米晶结构不发生变化的情况下，那么AlCrN和AlCrSiN陶瓷层在750℃和850℃温度条件下，Ni元素的扩散系数应为12.74×10-12 m2/s和25.81×10-12 m2/s，而实际计算所得的D值远高于理论值，说明结晶结构中的大量晶界促进了基体中Ni元素的扩散。在纳米晶-非晶结构中，无晶界提供扩散通道，可以提高样品的扩散阻挡能力[22]。