《表1 反应温度对CH4Cl2Si去除率的影响》

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《光氯化反应脱除三氯氢硅中的甲基二氯硅烷》

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在n（Cl2）∶n（CH4Cl2Si）=5∶1、反应时间为20 s、365 nm光源、光强为15 W条件下，考察了反应温度对氯化反应的影响，实验方法同1.2节，结果见表1。