《表1 不同工艺下电沉积硅优缺点》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《低温电沉积硅工艺研究进展》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

当然，低温电沉积法依然有很多不足:1)由于电解质中杂质离子的吸附影响，所得硅的纯度不高；2)SiCl4沸点太低、易挥发，且极易发生水解。需寻找性质更加稳定的硅源；3)固态电极只能获得非晶硅，而液态电极电沉积硅目前尚无法直接形成有效的器件。如何结合两者优势，选用合适的基底与试验方案电沉积可形成器件的、致密均匀的硅薄膜是目前急需解决的问题；4)考虑到降低成本的问题，对液态金属电极、电解液等的循环利用以及阳极产物的收集利用是非常关键的。表1概括了低温硅电沉积关键工艺因素的优缺点。