《表5 光板光泽度对化抛后光泽度的影响》
固定化抛工艺为:化抛温度100℃,化抛时间9s;氧化工艺为:电解液浓度11%,氧化时间25min。通过调整轧辊粗糙度,获得在相同变形量及成品厚度下不同光泽度的氧化料。不同光板光泽度对化抛后光泽度及氧化后光泽度的影响如表5所示。从表5可以看出,光板光泽度对化抛后光泽度的影响为不确定,光板光泽度高的化抛后光泽度也高,但光板光泽度低的化抛后光泽度不一定低。此外从表中还可以看出,光板光泽度低的经化抛后其光泽度的增加明显高于光泽度高的。
图表编号 | XD00103977700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.10.20 |
作者 | 沈建国、孔军、许泽辉、陈登斌 |
绘制单位 | 浙江省永杰铝合金新材料研究院、浙江省永杰铝合金新材料研究院、浙江永杰铝业有限公司、浙江永杰铝业有限公司、浙江省永杰铝合金新材料研究院 |
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