《表3 各样品在第一次、第三次扫描CV曲线峰电位比较Table 3 The first and third scanning CV curve peak potential of different

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《无钴镍基正极材料LiNi_(0.7)Mn_(0.3)O_2氟掺杂改性研究》

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图3是不同F掺杂量样品的循环伏安曲线。各样品在3.7~3.9V附近都有一对相似的氧化还原峰，对应的是充放电中Ni 2+Ni 3+/Ni 3+Ni 4+过程，而在4.2~4.3V附近的较小的峰位对应的是菱面体相H2H3转变[15]。各掺F样品的2、3次扫描曲线重合度更高，说明具有更好的可逆性。表3对比了掺杂前后各样品的1、3次扫描曲线的电位变化。从表3可以发现，F掺入之后，电位差减小，且掺量越大电位差越小，说明掺F可以减小电极氧化还原电位差，提高电极的可逆性。